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      <title>Nanolitografía by sergio</title>
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      <language>en-us</language>
      <pubDate>2016-11-02 11:49:10 UTC</pubDate>
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         <title>¿Qué es?</title>
         <author>a23266</author>
         <link>https://padlet.com/a23266/tjaa289fnbvh/wish/134727529</link>
         <description><![CDATA[<div>La <strong>nanolitografía</strong> o <a href="https://es.wikipedia.org/wiki/Litograf%C3%ADa">litografía</a> a la escala del <a href="https://es.wikipedia.org/wiki/Nan%C3%B3metro">nanómetro</a>, se refiere a la fabricación de <a href="https://es.wikipedia.org/w/index.php?title=Microestructura&amp;action=edit&amp;redlink=1">microestructuras</a> con un tamaño de escala que ronda los nanómetros. Esto implica la existencia de patrones litografiados en los que, al menos, una de sus dimensiones longitudinales es del tamaño de <a href="https://es.wikipedia.org/wiki/%C3%81tomo">átomos</a> individuales y aproximadamente del orden de 10 nm. La nanolitografía se usa durante la fabricación de <a href="https://es.wikipedia.org/wiki/Circuito_integrado">circuitos integrados</a> de <a href="https://es.wikipedia.org/wiki/Semiconductor">semiconductores</a> o <a href="https://es.wikipedia.org/w/index.php?title=Sistemas_nanoelectromec%C3%A1nicos&amp;action=edit&amp;redlink=1">sistemas nanoelectromecánicos</a>, conocidos como <em>Nanoelectromechanical Systems</em> o NEMS.</div>]]></description>
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         <pubDate>2016-11-02 11:57:10 UTC</pubDate>
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         <title>EBDW</title>
         <author>a23266</author>
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         <description><![CDATA[<div>La más corriente de las técnicas nanolitográficas es la litografía de escritura directa por haces de <a href="https://es.wikipedia.org/wiki/Electr%C3%B3n">electrones</a> (<em>Electrón Beam Direct Write lithography</em> o EBDW). En esta técnica, el uso de un haz de electrones imprime un patrón, usualmente sobre una <a href="https://es.wikipedia.org/wiki/Resina">resina</a> de <a href="https://es.wikipedia.org/wiki/Pol%C3%ADmero">polímero</a> que se opone tal como PMMA.</div>]]></description>
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         <pubDate>2016-11-02 11:59:21 UTC</pubDate>
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         <title>EUV</title>
         <author>a23266</author>
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         <description><![CDATA[<div>Litografía del <a href="https://es.wikipedia.org/wiki/Ultravioleta">ultravioleta</a> extremo (<em>Extreme Ultraviolet lithography</em> o EUV) es una variedad de litografía óptica que usa longitudes de onda muy corta, del orden de 13,5 nm. Es la que se denomina normalmente como técnica NGL</div><div><br><br></div><div><br></div>]]></description>
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         <pubDate>2016-11-02 11:59:56 UTC</pubDate>
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         <title>PREVAIL, SCALPEL y LEEPL</title>
         <author>a23266</author>
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         <description><![CDATA[<div>Litografía por <a href="https://es.wikipedia.org/wiki/Part%C3%ADcula_subat%C3%B3mica">partículas</a> cargadas, tales como litografías por <a href="https://es.wikipedia.org/wiki/Ion">iones</a> o proyecciones de electrones (PREVAIL, SCALPEL, LEEPL). Estas técnicas son capaces de producir patrones de muy alta resolución.</div><div><br><br></div><div><br></div>]]></description>
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         <pubDate>2016-11-02 12:00:18 UTC</pubDate>
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         <title>NIL</title>
         <author>a23266</author>
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         <description><![CDATA[<div>Litografía de nanoimpresión (<em>Nanoimprint Lithography</em> o NIL) y sus variantes, tales como la litografía de impresión por pasos como LISA y LADI. Estas técnicas son tecnologías de replicación de patrones muy prometedoras. Pueden combinares con la impresión por contacto</div><div><br><br></div><div><br></div>]]></description>
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         <pubDate>2016-11-02 12:00:52 UTC</pubDate>
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         <title>SPL</title>
         <author>a23266</author>
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         <description><![CDATA[<div>Litografía de escaneo por sonda (<em>Scanning Probe Lithographies</em> o SPL) parece ser una prometedora herramienta para la producción de patrones en la escala de los nanómetros. Por ejemplo, los átomos individuales se pueden manipular usando la punta de un <a href="https://es.wikipedia.org/wiki/Microscopio_de_efecto_t%C3%BAnel">microscopio de efecto túnel</a> (<em>Scanning Tunneling Microscope</em> o STM). La nanolitografía de descenso de sonda es la primera tecnología comercial de tipo SPL disponible basada en el <a href="https://es.wikipedia.org/wiki/Microscopio_de_fuerza_at%C3%B3mica">microscopio de fuerza atómica</a>.</div><div><br><br></div><div><br></div>]]></description>
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         <pubDate>2016-11-02 12:01:27 UTC</pubDate>
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         <title>Rayos X</title>
         <author>a23266</author>
         <link>https://padlet.com/a23266/tjaa289fnbvh/wish/134729012</link>
         <description><![CDATA[<div>El desarrollo más evolucionado de la NGL continúa con la litografía de <a href="https://es.wikipedia.org/wiki/Rayos_X">rayos X</a>, que puede llegar a extenderse a resoluciones de 15 nm por el uso de una reducción de campo cercano.</div><div><br><br></div><div><br></div>]]></description>
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         <pubDate>2016-11-02 12:02:18 UTC</pubDate>
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