https://prologue.blogs.archives.gov/2015/03/11/inventing-in-congress-patent-law-since-1790/

No debate sobre o sigilo no universo acadêmico, o Bayh-Dole Act norte-americano (editado em 1980) se tornou um marco de referência, por tratar da transferência de tecnologia e da propriedade intelectual nas universidades. O grande avanço do Bayh-Dole Act foi permitir à universidade reter os direitos de propriedade intelectual sobre o resultado de pesquisas desenvolvidas com recursos federais. Até ali, era o governo federal o proprietário dos resultados advindos dessas pesquisas; houve então a percepção de que, dessa maneira, o conhecimento gerado não estava sendo adequadamente transferido para o setor empresarial, não se transformava num produto comercializável - o que impedia a sociedade americana de ter acesso a esse benefício. Uma ampla discussão foi iniciada no sentido de reverter essa situação. O Bayh-Dole Act deu o direito às universidades de reter os direitos de propriedade intelectual sobre a pesquisa; também descentralizou decisões e propiciou uma maior disseminação do conhecimento e sua transferência para o setor empresarial. O Bayh-Dole Act incentivou fortemente a colaboração entre universidades e empresas, reconhecendo a força da comunidade acadêmica na produção do conhecimento e a força da indústria na transformação desse conhecimento em um produto comercial. Nesse contexto, a lei estabelece como premissa fundamental o dever de proteger antes de publicar - mantém o sigilo. Outro aspecto do Bayh-Dole Act é tornar obrigação legal das universidades a comercialização da tecnologia do resultado de pesquisa. Para poderem reter o direito de propriedade intelectual, as universidades norte-americanas assumem o compromisso com a comercialização desses resultados. Esses são apenas alguns dos aspectos da lei, que vem sendo modificada para superar falhas. Da mesma maneira, a nossa Lei de Inovação pode ser vista como um primeiro passo, no sentido de podermos aperfeiçoá-la à medida em que a operacionalização dos procedimentos nos mostre o que precisará ser aperfeiçoado. O modelo que o Bayh-Dole Act estabeleceu vem sendo seguido por vários outros paises, como China, França, Coréia, Alemanha, implementando normas no sentido de como regulamentar a propriedade intelectual e a transferência de tecnologia nas instituições de pesquisa.

O seu principal objetivo é simplificar e tornar mais econômica a proteção das invenções quando a mesma for pedida em vários países. 

Um pedido PCT pode ser apresentado por qualquer pessoa que tenha nacionalidade ou seja residente em um Estado membro do Tratado.

intelectual. (Fonte: https://www.indexlaw.org/index.php/revistadipic/article/view/4412/pdf)

O texto não contém grandes alterações relativas ao direito autoral:

aos autores pertence o direito exclusivo de utilização, publicação ou reprodução de suas obras, transmissível aos herdeiros pelo tempo que a lei fixar;

Porém, no que diz respeito à propriedade industrial, hoje há destaque para o papel social desta:

a lei assegurará aos autores de inventos industriais privilégio temporário para sua utilização, bem como proteção às criações industriais, à propriedade das marcas, aos nomes de empresas e a outros signos distintivos, tendo em vista o interesse social e o desenvolvimento tecnológico e econômico do País;

Nesse cenário, vale frisar uma diferenciação importante entre a patente e o registro: uma patente é o título que formaliza a proteção da invenção de e do modelo de utilidade. Já o registro é o título que formaliza a proteção do desenho industrial e da marca.

O Brasil, ainda que de forma tímida, está começando a participar de eventos internacionais referentes à proteção da propriedade intelectual. A mais nova e importante, foi a adesão ao Protocolo de Madri, definido com sistema internacional para a proteção de marcas, que reconhece necessidades impostas por uma economia de informação globalizada. Exemplo disso seria a redução de custos, a simplificação de procedimentos, e o acesso mais facilitado a mercados no exterior. O objetivo desse protocolo é promover a inovação de forma facilitada e mais igualitária possível entre seus integrantes.

O instrumento de adesão do Brasil ao Protocolo de Madri foi assinado pelo Presidente da República no dia 25 de junho de 2019 e foi depositado junto à OMPI na data de 2 de julho de 2019. O Protocolo entra em vigor três meses após a adesão, nos termos do art. 14(4)(b) do tratado.

Isso significa que, a partir de 2 de outubro de 2019, o Brasil poderá atuar como Administração de origem e como Parte Contratante designada, enviando e recebendo pedidos internacionais no âmbito do Protocolo. Os procedimentos adotados pelo INPI em ambas as situações encontram-se detalhados neste capítulo do Manual de Marcas.

Fonte: http://manualdemarcas.inpi.gov.br/projects/manual/wiki/11_Protocolo_de_Madri#:~:text=O%20tratado%2C%20que%20%C3%A9%20administrado,2%20de%20julho%20de%202019.

O Desenho Industrial protege os aspectos ornamentais de um objeto que pode ser reproduzido de forma industrial – tanto a sua forma tridimensional quanto os aspectos bidimensionais, como estampas e padrões aplicados.

Assim como os demais sistemas internacionais de proteção de direitos de propriedade intelectual administrados pela OMPI, i.e. Tratado de Cooperação em Patentes e Sistema de Madri para Marcas, o Acordo de Haia beneficia os titulares de Desenhos Industriais que buscam a proteção da sua criação em mercados internacionais. 

Titulares de Desenhos Industriais brasileiros poderão buscar a proteção internacional dos seus desenhos em 96 outros países depositando apenas um único pedido, ao invés de depositar pedidos individuais em cada um dos países onde se busca a proteção. Da mesma foram, residentes de outros 96 países poderão buscar a proteção de seus Desenhos Industriais no Brasil através do Sistema da Haia.

O Acordo de Haia entrará em funcionamento no Brasil e o Instituto Nacional da Propriedade Industrial (INPI) passará a receber pedidos de Desenhos Industriais via Sistema de Haia a partir de 1º de agosto de 2023.

fonte: https://www.gov.br/pt-br/propriedade-intelectual/noticias/2023/fevereiro/brasil-adere-ao-sistema-de-haia-para-a-protecao-internacional-de-desenhos-industriais